Chiny uruchomiły produkcję własnych maszyn DUV
Ruszyła produkcja pierwszych chińskich maszyn litograficznych DUV. Nowe urządzenia nie dorównują jeszcze rozwiązaniom ASML, ale mają stanowić podstawę do rozwoju krajowego zaplecza technologicznego.
Pierwsze maszyny litograficzne DUV wyprodukowane w Chinach mają trafić do krajowych producentów półprzewodników – SMIC, CXMT i Hua Hong. To ważny krok w realizacji strategii, która ma ograniczyć zależność tamtejszego przemysłu od zagranicznych technologii do produkcji chipów.
Nowe urządzenia mają znaleźć zastosowanie przede wszystkim w produkcji układów w starszych procesach technologicznych. Oznacza to, że na razie nie będą bezpośrednią konkurencją dla najbardziej zaawansowanych systemów oferowanych przez holenderskie ASML.
Jeszcze daleko do możliwości ASML
Na obecnym etapie niewiele wiadomo o parametrach technicznych chińskich maszyn. Producent – anonimowa firma z Szanghaju - nie ujawnił ich wydajności ani maksymalnego poziomu zaawansowania procesów technologicznych, które będą mogły obsługiwać. Wiadomo natomiast, że jeszcze w tym roku ma powstać pięć urządzeń, a do 2027 roku roczna produkcja ma wzrosnąć do około 20.
Dla porównania najnowszy immersyjny system TWINSCAN NXT:2150i firmy ASML jest w stanie przetwarzać ponad 310 płytek krzemowych na godzinę. W 2025 roku holenderski producent dostarczył klientom 131 immersyjnych systemów DUV, co pokazuje skalę jego przewagi produkcyjnej i technologicznej.
Warto zwrócić uwagę na fakt, że chińskie maszyny nie są całkowicie niezależne od zagranicznych dostaw. Część kluczowych komponentów pochodzi z Japonii, co oznacza, że pełna samowystarczalność w obszarze litografii pozostaje jeszcze odległym celem.
Pierwszymi odbiorcami nowych systemów mają zostać trzy czołowe chińskie firmy półprzewodnikowe.
Dla CXMT produkującego pamięci DRAM w dojrzałych procesach technologicznych, możliwości nowych maszyn powinny okazać się wystarczające. Znacznie większym wyzwaniem będzie ich wykorzystanie przez SMIC, które rozwija bardziej zaawansowane układy logiczne. Analitycy wskazują, że producent może próbować stosować wielokrotne naświetlanie (multiple patterning), aby wytwarzać układy klasy 5 nm bez dostępu do technologii EUV. Takie podejście jest jednak bardziej złożone, wydłuża proces produkcyjny i zwiększa jego koszty.
Strategiczny krok w stronę niezależności
Uruchomienie krajowej produkcji maszyn DUV ma przede wszystkim znaczenie strategiczne. Własne systemy litograficzne pozwolą Chinom stopniowo rozwijać kompetencje w jednym z najtrudniejszych segmentów przemysłu półprzewodników oraz zmniejszać skutki ograniczeń eksportowych nakładanych przez Stany Zjednoczone i ich sojuszników.
Choć pierwsza generacja chińskich urządzeń prawdopodobnie będzie ustępować rozwiązaniom ASML pod względem wydajności i możliwości technologicznych, ich pojawienie się pokazuje, że Pekin konsekwentnie realizuje długoterminową strategię budowy własnego łańcucha dostaw dla produkcji półprzewodników. W perspektywie kolejnych lat może to stopniowo zmieniać układ sił na globalnym rynku technologii litograficznych.
Zapraszamy na TEK.day Gdańsk, 24 września 2026. Zapisz się tutaj!
